Investigadores de la Universidad Autónoma de Madrid (UAM) y la Universidad Ben-Gurión del Néguev (Israel) lograron infiltrar cristales líquidos en nanoestructuras porosas basadas en silicio. El hecho representa una importante contribución al desarrollo de futuros dispositivos nanofotónicos que puedan ser integrados en la actual tecnología microelectrónica. El trabajo publicado en Applied Physics Letters consiste en la fabricación de filtros ópticos basados en silicio poroso mediante el ataque electroquímico controlado de obleas de silicio monocristalino. Estos filtros ópticos, compuestos por capas alternas con diferentes índices de refracción, muestran máximos de reflexión de luz a determinadas longitudes de onda. Las estructuras porosas fueron, a continuación, infiltradas con cristales líquidos mediante una técnica de succión capilar en vacío a temperatura controlada.
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